МОС-гидридная эпитаксия в технологии материалов фотоники и электроники

Обзор

Данная работа посвящена исследованию процесса МОС-гидридной эпитаксии, ключевой технологии для создания передовых материалов. Особое внимание уделяется применению этой методики в области фотоники и электроники. Рассматриваются фундаментальные аспекты процесса, включая химические реакции и механизмы роста слоев. Анализируются возможности МОС-гидридной эпитаксии для получения материалов с заданными свойствами, необходимыми для современных электронных и оптических устройств.

Кому подойдёт

• Специалистам, работающим в области материаловедения и полупроводниковых технологий.
• Исследователям, занимающимся разработкой новых фотонных и электронных устройств.
• Студентам старших курсов и аспирантам, изучающим физику и технику полупроводников.

Ключевые особенности

• Язык: Русский
• Формат: Печатная книга
• Тематика: Фотоника, электроника, материаловедение

<hr>

MOCVD Epitaxy in Photonics and Electronics Materials Technology

Overview

This work explores the process of Metalorganic Chemical Vapor Deposition (MOCVD) epitaxy, a crucial technology for developing advanced materials. It focuses on the application of this method in photonics and electronics. The study examines fundamental aspects of the process, including chemical reactions and layer growth mechanisms. It analyzes the capabilities of MOCVD epitaxy for producing materials with specific properties required for modern electronic and optical devices.

Who it's for

• Specialists in materials science and semiconductor technology.
• Researchers developing new photonic and electronic devices.
• Advanced students and postgraduates studying semiconductor physics and engineering.

Key features

• Language: Russian
• Format: Print book
• Subject: Photonics, electronics, materials science